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Wafer热敏胶厚度检测应用

热敏胶的厚度是影响半导体器件性能的关键因素之一,通过检测可以监控和调整生长过程中的热敏胶厚度控制,确保外延层的厚度符合设计要求,进而优化器件的电气性能和稳定性‌。瑞邦精密专注精密运动台,实现测量过程中的精度定位,有成熟的应用案例。

 

平面式气浮运动台特点

-XY轴行程320 x 320mm(兼容12in Wafer)。
-双向重复定位精度±50nm。
-10mm范围平面度±50nm 。
-全行程平面度±100nm。
-Z轴定位纹波20nm
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