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有图形晶圆缺陷检测应用

第二代

四轴精密运动台用于有图形晶圆缺陷检测,为国内先进集成电路前道工艺和先进封装等场景的纳米图形检测提供超精密定位,高速高精度气浮运动台,用户搭载光学检测系统(明场和暗场检测方法),适用于12寸晶圆,可快速高效地检测晶圆加工过程中的各类缺陷。

 

四轴精密运动台特点

-平面式气浮结构,降低阿贝误差影响;QFDHSiC-XY系列碳化硅平面气浮-版本1无背景.png
-重复定位精度±15nm;
-步进、扫描、自动追焦(AF) ;
-配置海德汉光栅尺、陶瓷材质横梁;
-速度加速度可达1m/s,1G;
-可配置主动隔振。
 
参数名称 X轴 Y轴 Z轴 T轴
行程 500mm 500mm 5mm
补偿后定位精度 ±200nm ±200nm ±100nm ±1arc sec
双向重复定位精度 ±15nm ±15nm ±50nm ±0.3arc sec
定位抖动 5nm 5nm 10nm 0.1arc sec
跟随误差 100nm@300mm/s 100nm@50hz@±1μm /

 

第一代

晶圆表面缺陷、划痕、污垢、裂纹等是常见的质量问题。这些缺陷可能是在制造过程中由于磨损、摩擦或其他原因造成的,会影响产品的功能。常规的解决方案为视觉检测技术,将晶圆放置在XYR精密运动台上,XY轴进行位置的左右前后移动,R轴调整晶圆的位姿,在Z轴上放置视觉检测装置,如光源和CCD镜头,调整到视觉合适位置,确保在视觉范围内将不良品准确的检测出来。

 

四轴精密运动台特点

-补偿后定位精度 XYZ ±1μm;R ±2arc sec。
-双向重复定位精度 XYZ ±0.3μm;R ±1arc sec。
-微动步距 XYZ ≤50nm;R 1arc sec。
-定位抖动 XYZ ≤30nm;R ≤0.1arc sec。
 

                                                       

 流程图

 

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